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沉金工艺与镀金工艺的区别
时间:2023/12/11

在电子工程中,FPC(柔性印刷电路板)的金属化处理通常包括两种常见的方法:沉金和镀金。这两种方法都可以提供强大的金属保护层,并提高接触连接的可靠性。它们之间的区别在


于金属沉积的方式和使用的材料。


1. 沉金(ENIG):沉金是一种常用的金属化处理方法,它使用电化学镀技术在表面形成金属保护层。沉金过程通常包括两个主要步骤:镀铜和镀金。镀铜在基板上形成一个薄薄


的铜层,然后在铜层上镀上一层光亮的金属。沉金技术与其它金属化方法相比具有许多优点,例如防腐蚀性能好、焊接性能稳定、易于组装等。


2. 镀金(HARD GOLD):镀金是将金属沉积到基板表面的一种方法,具体来说,是通过电化学方法将金属镀到基材上形成保护层。不同于沉金技术,镀金过程中没有在铜层上


先镀铜。金属保护层通常由镀层和镀金组成,镀层通常是镍和一层高硬度的金属,如硬金属(通常是钯或钯合金)。这样可以提供更高的耐磨性和耐腐蚀性。镀金技术通常适用于需


要更高可靠性和耐久性的应用,如金手指、插座和连接器等。


总的来说,沉金主要是在铜层上依次镀铜和镀金,提供良好的焊接性能和防腐蚀性;而镀金是在基材上直接镀金,通过使用硬金属提供更高的耐磨性和耐腐蚀性。选择使用哪种方


法取决于具体的应用要求和成本考虑。